氧化还原荧光法测定痕量亚硝酸根

• 作者: 朱展才 汪静 许文伟
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 荧光光度法,亚硝酸根,氧化还原反应,异硫氰酸荧光素
• 年，卷（期）: 2001,（8）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 941-943
• 页数: 3页
• 分类号: O65
• 字数: 2088字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2001.08.020

摘要

建立了碘化钾与亚硝酸根氧化还原反应生成游离碘使异硫氰酸荧光素荧光猝灭测定痕量亚硝酸根的新方法。其线性范围为25～100　μg/L，回归方程为ΔF=7.98C-10.5,r=0.9990,方法的检测限为12 μg/L。本法快速、灵敏，操作简便，用于水样中痕量亚硝酸根的测定，结果良好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱展才	漳州师范学院化学系	8	110	6.0	8.0
2	汪静	漳州师范学院化学系	3	79	3.0	3.0
3	许文伟	漳州师范学院化学系	1	37	1.0	1.0