KTN薄膜脉冲激光沉积过程的机理研究

• 作者: 关丽 张端明 李国栋 李智华 钟志成 陈中军 黄明涛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: PLD技术 烧蚀率 等离子体 KTN薄膜
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: 流体、等离子体和放电
• 页码范围: 1950-1955
• 页数: 6页
• 分类号: TN24
• 字数: 5455字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.10.023

摘要

根据能量平衡原理,导出了脉冲激光作用靶材的烧蚀率公式,并根据流体动力学理论,得出了脉冲激光产生的等离子体的空间运动特性方程,将靶材烧蚀率公式与等离子体空间动力学方程结合起来,根据实验研究了不同激光功率密度和波长对KTa0.65Nb0.35O3(KTN)薄膜沉积特性的影响,得到了一些有价值的结果,并对结果进行了详细的讨论,理论计算结果与实验大体符合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李智华	华中科技大学主校区物理系	19	171	8.0	12.0
2	张端明	华中科技大学主校区物理系	44	322	10.0	16.0
3	关丽	华中科技大学主校区物理系	10	194	8.0	10.0
4	李国栋	襄樊学院物理系	3	37	3.0	3.0
5	黄明涛	华中科技大学主校区物理系	4	77	3.0	4.0
6	钟志成	襄樊学院物理系	2	30	2.0	2.0
7	陈中军	华中科技大学主校区物理系	1	26	1.0	1.0