电子回旋共振等离子体增强沉积氟化非晶碳薄膜的光学性种

• 作者: 叶超 宁兆元 程珊华
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化非晶碳薄膜 光吸收与光学带隙 电子回旋共振等离子体
• 年，卷（期）: 2001,（10）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 2017-2022
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 2945字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.10.034

摘要

用紫外-可见光透射光谱(UV-VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱(XPS)和红外谱(FTIR)分析,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学带隙性质.在微波功率为140-700W、源气体CHF3:C6H6比例为1:1-10:1条件下沉积的薄膜,光学带隙在1.76-2.85eV之间.薄膜中氟的引人对吸收边和光学带隙产生较大的影响,吸收边随氟含量的提高而增大,光学带隙则主要取决于CF键的含量,是由于强电负性F的引入改变了价带带尾附近带隙中态密度的结果所至.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宁兆元	苏州大学物理系	70	528	12.0	18.0
2	叶超	苏州大学物理系	33	244	10.0	14.0
3	程珊华	苏州大学物理系	30	347	11.0	17.0