InP/SiO-2纳米复合膜的微观结构和光学性质

• 作者: S.P.WONG W.F.LAU W.Y.Cheung 丁瑞钦 于英敏 王宁娟 王浩
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: InP 纳米晶粒 微观结构 光学性质
• 年，卷（期）: 2001,（8）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1574-1579
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 5017字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2001.08.032

摘要

应用射频磁控共溅射方法在石英玻璃和抛光硅片上制备了InP/SiO2复合薄膜，并在几种条件下对这些薄膜进行退火.X射线光电子能谱和卢瑟福背散射实验结果表明，复合薄膜中InP和SiO2的化学组分都大体上符合化学计量配比.X射线衍射和激光喇曼谱实验结果都证实了复合薄膜中形成了InP纳米晶粒.磷气氛保护下的高温(520℃)退火可以消除复合薄膜中残存的In和In2O3并得到了纯InP/SiO2纳米复合薄膜.实验观察到了室温下纳米复合薄膜的明显的光学吸收边蓝移现象和光学非线性的极大增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁瑞钦	广东省五邑大学薄膜与纳米材料研究所	1	7	1.0	1.0
2	王浩	广东省五邑大学薄膜与纳米材料研究所	1	7	1.0	1.0
3	W.F.LAU	香港中文大学电子工程系暨材料科技研究中心	1	7	1.0	1.0
4	W.Y.Cheung	香港中文大学电子工程系暨材料科技研究中心	3	19	3.0	3.0
5	S.P.WONG	香港中文大学电子工程系暨材料科技研究中心	5	20	3.0	4.0
6	王宁娟	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	1	7	1.0	1.0
7	于英敏	南开大学光电子薄膜器件与技术研究所	1	7	1.0	1.0