阻抑-褪色光度法测定痕量硅

• 作者: 刘佳铭
• 来源期刊: 分析化学
• 学科: 化学
• 关键词: 硅 姜黄素 十六烷基三甲基溴化铵 抑制作用 褪色光度法
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 293-295
• 页数: 3页
• 分类号: O65
• 字数: 2138字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3820.2001.03.012

摘要

基于NH3-NH4Cl缓冲溶液介质中，Si(Ⅳ)对H2O2氧化十六烷基三甲基溴化铵-姜黄素离子缔合物的褪色反应的抑制作用，提出了测定痕量硅新的高灵敏的褪色光度法。该方法的表观摩尔吸光系数ε500=5.70×105L*mol－1*cm－1；线性范围为0.4～3．6 μg/L；线性回归方程ΔA=2.23×10－4+0.02017CSi(Ⅳ)(μg/L)；相关系数r=0.9999；测定下限为2.0×10－8 g/L。本法用于人发样和水样中痕量硅的测定，结果满意

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘佳铭	漳州师范学院化学系	61	213	8.0	10.0