铁电薄膜存储器底电极Pt/Ti的制备及性能研究

• 作者: 廖红伟 彭烈涛 李佐宜 李震 林更琪
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 底电极 电导率 粘结力 退火
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TP333
• 字数: 2623字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2002.03.003

摘要

应用射频磁控溅射方法,在Si基片上采用不同的溅射工艺制备了铁电薄膜底电极Pt/Ti,并分析了在不同温度下退火后材料的电导率性能和粘结力性能,从理论和实验上分析了不同的溅射工艺和退火处理对底电极性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李震	华中科技大学电子科学与技术系	139	769	14.0	21.0
2	林更琪	华中科技大学电子科学与技术系	26	85	4.0	7.0
3	李佐宜	华中科技大学电子科学与技术系	59	267	7.0	13.0
4	廖红伟	华中科技大学电子科学与技术系	10	91	5.0	9.0
5	彭烈涛	华中科技大学电子科学与技术系	2	12	1.0	2.0