电化学氧化生长纳米晶TiO2光催化薄膜结构与性能表征

• 作者: 姚书典 宋江江 李凌峰 沈嘉年
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学氧化 纳米晶TiO2薄膜 光催化
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 98-100
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.4
• 字数: 1585字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4537.2002.02.009

摘要

用电化学阳极氧化方法在Ti上制备纳米晶TiO2薄膜.结果表明,将工业纯钛片暴露于电介质溶液并加一定电压,Ti表面将氧化生长TiO2薄膜.适当控制氧化电压、溶液温度,可以得到非晶氧化膜,再进行控制条件下的晶化处理,得到锐钛矿相纳米晶TiO2薄膜,其晶粒度约在10～30 nm.研究了电化学氧化过程氧化膜生长动力学,发现在0～80 V电压范围内,氧化膜随电压增加而增厚,在一定电压下氧化膜有一恒定的厚度,氧化膜厚度和氧化电流随时间而逐步降低呈对数规律,氧化膜生长过程受电场作用下离子通过膜的迁移所控制.用TEM、X-衍射表征TiO2薄膜的晶体形貌与相结构.用光谱仪测定了薄膜对入射光的吸收特性,表明电化学氧化制备的纳米晶TiO2薄膜对近紫外入射光产生强烈的吸收,显示纳米结构的量子效应.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈嘉年	上海大学材料研究所	56	896	20.0	27.0
2	李凌峰	上海大学材料研究所	4	122	4.0	4.0
3	姚书典	上海大学材料研究所	6	125	6.0	6.0
4	宋江江	上海大学材料研究所	2	53	2.0	2.0