软X射线投影光刻技术及其发展

• 作者: 曹健林 金春水
• 来源期刊: 物理实验
• 学科: 物理学
• 关键词: 软X射线 投影光刻 光学系统
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 本刊特约稿
• 页码范围: 3-6
• 页数: 4页
• 分类号: O434.19
• 字数: 3905字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4642.2002.05.001

摘要

软X射线投影光刻的研究近年来取得了突破性进展,所采用的新型光学系统由无污染激光等离子光源及高分辨率大视场投影光刻系统组成.该技术多采用无应力光学装调工艺、深亚纳米级的镜面加工和多层膜制备技术及低缺陷反射式掩模技术.该技术还采用表面成像光刻胶技术并涉及到精密扫描机构等技术.本文介绍了这一技术的发展历史、关键技术以及研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	56	202	9.0	11.0
2	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	37	328	10.0	17.0