高活性纳米氧化硅的催化性能研究

• 作者: 宋心远 宋晓秋 李宏涛
• 来源期刊: 印染
• 学科: 工学
• 关键词: 防皱整理 断裂强度 折皱回复角 氧化硅 纳米
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TS195.55
• 字数: 3456字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-4017.2002.12.001

摘要

对湿法制备的纳米氧化硅进行了物性表征,并选用纳米氧化硅作真丝多羧酸防皱整理剂的交联催化剂.通过对高活性纳米氧化硅产品进行X射线衍射及红外光谱的分析,其平均粒径30 nm;实验数据也表明,高活性纳米氧化硅具有较高的反应活性,可以作为马来酸酐防皱整理很有效的催化剂.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋心远		210	2474	25.0	34.0
2	宋晓秋		7	110	6.0	7.0
3	李宏涛		8	128	6.0	8.0