中频反应溅射SiO2膜与直流溅射ITO膜的在线联镀

• 作者: 侯晓波 吴克坚 周海军 查良镇 范垂祯 许生 赵来 颜远全 高文波
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射 SiO2 ITO 在线联镀
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 专家聚焦
• 页码范围: 15-18
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3794字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2002.05.002

摘要

多数ITO透明导电玻璃生产线在实现SiO2膜与ITO膜在线联镀时,应用SiO2靶射频溅射沉积SiO2膜工艺和ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺,如果SiO2膜应用硅靶反应磁控溅射工艺,存在这种工艺是否可以与ITO靶直流溅射沉积ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题.作者对现有的生产线进行了改造设计、加工,做了大量实验、质谱分析和多项测试研究,成功地实现反应溅射SiO2膜与ITO膜在线联镀,做到SiO2镀膜室的工作状态的变化基本上不影响ITO镀膜室的工艺条件.