二元光学器件激光直写技术的研究进展

• 作者: 吕海宝 戴一帆 李圣怡 颜树华
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 二元光学 激光直写 变灰度掩模法
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 动态综述
• 页码范围: 159-162
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2488字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2002.03.004

摘要

二元光学器件的激光直写技术可克服传统的半导体工艺(掩模套刻法或多次沉积薄膜法)所带来的加工环节多、对准精度难以控制、周期长、成本高等问题,可进一步提高二元光学器件的制作精度和衍射效率.分析了二元光学器件激光直写的基本原理,对已有的各种激光直写方法和最新研究成果进行了综述,并展望了其发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院	109	1657	23.0	33.0
2	李圣怡	国防科技大学机电工程与自动化学院	186	3101	27.0	44.0
3	颜树华	国防科技大学机电工程与自动化学院	42	582	14.0	22.0
4	吕海宝	国防科技大学机电工程与自动化学院	69	1137	21.0	29.0