光刻技术的现状和发展

• 作者: 周芳 姜军 曾俊英 杨铁锋
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 涂胶 光刻机 分辨率 光刻胶 曝光
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 综述与评论
• 页码范围: 8-13,36
• 页数: 7页
• 分类号: TN215
• 字数: 5324字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2002.06.002

摘要

着重从涂胶、曝光(包括光源和曝光方式等)、光刻胶和深度光刻等方面介绍了光刻技术的现状和未来的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜军		4	81	2.0	4.0
2	周芳		3	82	2.0	3.0
3	曾俊英		1	61	1.0	1.0
4	杨铁锋		1	61	1.0	1.0