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摘要:
对在80~300K温度范围测量的Pb1-xGexTe(x=0.06)薄膜透射谱采用Lorentz谐振子模型进行拟合得到折射率.研究发现:在其铁电相变温度150K折射率出现极大值.折射率的极大值是晶体电容率异常的标志,而晶体电容率异常正是晶体相变具有铁电性的反映,因此同电阻和比热一样,折射率在铁电相变点也出现了异常.在所研究的光谱及温度范围,折射率与材料的禁带宽度不遵循Moss定则等经验公式.
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文献信息
篇名 Pb1-xGexTe薄膜在铁电相变点的折射率异常
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 Pb1-xGexTe 折射率 铁电相变 Moss定则
年,卷(期) 2002,(10) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1062-1066
页数 5页 分类号 TN304.2+6
字数 2527字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2002.10.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李斌 中国科学院上海技术物理研究所 372 5610 37.0 58.0
3 张凤山 中国科学院上海技术物理研究所 36 251 8.0 14.0
4 张素英 中国科学院上海技术物理研究所 14 22 3.0 3.0
5 江锦春 复旦大学现代物理研究所 2 5 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
Pb1-xGexTe
折射率
铁电相变
Moss定则
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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