日光温室黄瓜不同叶位叶片光合作用研究

• 作者: 何启伟 孙小镭 张振贤 艾希珍 邢禹贤
• 来源期刊: 中国农业科学
• 学科: 农学
• 关键词: 黄瓜 光合作用 日光温室
• 年，卷（期）: 2002,（12）
• 所属期刊栏目: 园艺
• 页码范围: 1519-1524
• 页数: 6页
• 分类号: S642
• 字数: 4280字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0578-1752.2002.12.016

摘要

日光温室黄瓜叶片的Pn和CE以中、上位较高,尤其是第4位叶最高,顶部叶和中下位叶次之,下位叶最低,光合作用饱和光强也以中位叶最高,但光补偿点多随叶位的下降而降低,基部弱光和CE降低是导致下位叶Pn降低的主要原因.在黄瓜生长期内,各叶位叶片的Pn随PFD的升高而增大.不同叶位叶片Pn的日变化规律基本相同,均呈单峰曲线型,高峰出现在12时左右.随着种植密度的增加,植株各层次叶片的光量子通量密度逐渐降低,尤其是中下部叶片降低幅度较大.种植密度对上位叶的Pn影响不大,但对光补偿点影响较大;下位叶的Pn及其饱和光强多随种植密度的增加而降低,但不同密度处理的光补偿点差异不显著.黄瓜叶片对光强有一定的适应和调节能力,表现为光照越弱,AQY越高,对光的利用能力越强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张振贤	中国农业大学园艺学院	68	1737	24.0	39.0
2	何启伟	山东省农业科学院蔬菜研究所	116	1776	22.0	38.0
3	邢禹贤	山东农业大学园艺学院	27	1255	15.0	27.0
4	艾希珍	山东农业大学园艺学院	61	1625	21.0	39.0
5	孙小镭	山东省农业科学院蔬菜研究所	54	945	17.0	29.0