低压等离子喷涂涂层膜基界面结合能的研究

• 作者: 刘安生 安生 朱其芳 李东飞 王福生 邵贝羚
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 涂层 断裂表面能 努氏界面印痕
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 373-375
• 页数: 3页
• 分类号: TG115.5
• 字数: 1944字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2002.05.012

摘要

用努氏界面印痕法, 对铁基Ni/Fe、镍基Cu/Ni低压等离子喷涂涂层的膜基界面进行界面结合能的研究, 分析得到涂层界面的断裂表面能. 分析得出铁基纯镍Ni/Fe涂层界面的断裂表面能比镍基铜Cu/Ni涂层的断裂表面能高. 界面微观分析表明, 镍基铜Cu/Ni涂层材料疏松, 膜基界面存在较多裂纹, 另外涂层和基体观察不到元素扩散层. Ni/Fe涂层界面结合致密, 约有2～3 μm的元素扩散层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘安生	北京有色金属研究总院分析测试所	30	133	6.0	10.0
2	邵贝羚	北京有色金属研究总院分析测试所	21	81	6.0	8.0
3	安生	北京有色金属研究总院分析测试所	5	19	2.0	4.0
4	朱其芳	北京有色金属研究总院分析测试所	11	82	5.0	9.0
5	李东飞	北京有色金属研究总院分析测试所	3	18	2.0	3.0
6	王福生	北京有色金属研究总院分析测试所	5	39	3.0	5.0