走向光学工业应用的辅助镀膜霍尔等离子体源

• 作者: 尤大伟 李安杰 武建军 江建国 黄小刚
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光学镀膜 离子束辅助镀膜 等离子体加速
• 年，卷（期）: 2002,（9）
• 页码范围: 679-683
• 页数: 5页
• 分类号: TL501.5
• 字数: 2656字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-3219.2002.09.002

摘要

论述了霍尔等离子体源的工作原理,讨论并测试了该源最佳的磁场及分布.本设计采用永久磁铁并利用极靴产生发散磁场,及沿轴向有较大梯度的磁场,还给出了束流均匀区实测结果及工业应用初步结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武建军	中国科学院空间中心	7	112	4.0	7.0
2	尤大伟	中国科学院空间中心	6	29	3.0	5.0
3	黄小刚	中国科学院空间中心	11	88	7.0	9.0
4	李安杰	中国科学院空间中心	4	29	3.0	4.0
5	江建国		1	7	1.0	1.0