水稻对紫外线B辐射增强的抗性遗传分析

• 作者: 曾建敏 林文雄 梁义元 梁康迳 郭玉春 陈芳育
• 来源期刊: 作物学报
• 关键词: 水稻 紫外线B(UV-B) 遗传分析 遗传率 显性效应 加性效应
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 页码范围: 686-692
• 页数: 7页
• 分类号: S511
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0496-3490.2002.05.020

摘要

采用加性-显性遗传模型和统计分析方法, 分析了水稻对UV-B辐射增强的抗性遗传特点. 结果表明, 水稻对UV-B辐射增强主要性状抗性指标的遗传受加性和显性效应共同控制, 其中以显性效应为主. 除株高抗性指标不存在狭义遗传率外, 各个抗性指标的狭义遗传率和广义遗传率均达显著水平. 亲本R669和密阳46的9个抗性指标具有明显的正向加性效应和显性效应值, 可作为改良对UV-B辐射增强抗性的理想亲本. 进一步对主要性状抗性指标与对照的相应性状进行相关分析, 认为应把植株较高、分蘖力强、根数多、叶片较薄等作为抗性育种的重要选择性状.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林文雄		321	7047	47.0	70.0
2	梁康迳		114	1771	25.0	35.0
3	陈芳育		38	1526	19.0	38.0
4	郭玉春		55	1640	20.0	40.0
5	梁义元		78	2569	27.0	48.0
6	曾建敏		6	187	6.0	6.0