Al含量对Ti1-XAlXN涂层组织结构的影响

• 作者: 夏立芳 李炳生 熊仁章 王永康 雷廷权
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 多弧离子镀 Ti1-XAlXN涂层 组织结构 (Ti,Al)N
• 年，卷（期）: 2002,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 24-25,12
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.375
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2002.08.007

摘要

通过不同Al含量的Ti-Al粉末冶金靶,采用多弧离子镀技术制备了Ti1-XAlXN涂层.用SEM、XRD、GAXRD以及XTEM等手段研究了Al元素对涂层组织结构的影响.研究表明,TiAlN涂层呈柱状多晶组织,(Ti,Al)N为涂层的主要组成相;随着Al含量的增加,涂层中的(Ti,Al)N相减少,且其晶格常数降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏立芳		48	772	16.0	26.0
2	雷廷权		117	2690	31.0	46.0
3	王永康		5	124	5.0	5.0
4	熊仁章		6	167	6.0	6.0
8	李炳生		9	203	8.0	9.0