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应用红外热像技术测量电子元件正常工作条件下的表面温度
应用红外热像技术测量电子元件正常工作条件下的表面温度
作者:
G.Morrison
M.Behnia
杨晶
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
红外热像
温度测量
电子元件冷却
摘要:
由于电子元件的功率密度不断增加,电子产品的热控制日显重要.红外热像仪有众多优点且可用于电子元件表面温度的测量.探讨了如何在电子元件正常工作条件下,应用红外热像仪获得其真实表面温度,涉及背景温度、目标温度的正确估计,透明材料的选取、透射率的估算,误差及可能的修正方法.
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红外热像仪
热像测温
热像图
应用研究
内容分析
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相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
应用红外热像技术测量电子元件正常工作条件下的表面温度
来源期刊
红外技术
学科
工学
关键词
红外热像
温度测量
电子元件冷却
年,卷(期)
2002,(3)
所属期刊栏目
测试技术
研究方向
页码范围
44-48
页数
5页
分类号
TN215
字数
2630字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-8891.2002.03.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
杨晶
北京科技大学机械工程学院
16
68
5.0
7.0
2
M.Behnia
新南威尔士大学机械与制造工程学院
1
8
1.0
1.0
3
G.Morrison
新南威尔士大学机械与制造工程学院
1
8
1.0
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引证文献(1)
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2003(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2004(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
2006(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
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引证文献(1)
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引证文献(0)
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2012(2)
引证文献(0)
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2013(2)
引证文献(0)
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引证文献(2)
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2017(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2020(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
红外热像
温度测量
电子元件冷却
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
主办单位:
昆明物理研究所
中国兵工学会夜视技术专业委员会
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-8891
CN:
53-1053/TN
开本:
大16开
出版地:
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
邮发代号:
64-26
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
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