菁染料和份菁染料薄膜的光稳定性研究

• 作者: 孟凡顺 杨松杰 田禾 肖鹤鸣 贡雪东
• 来源期刊: 感光科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 菁染料 光稳定性 份菁染料 量子化学计算
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 10-18
• 页数: 9页
• 分类号: O64
• 字数: 4505字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-0475.2002.01.002

摘要

利用UV-Vis吸收光谱仪和光化学反应器研究了菁染料和份菁染料薄膜的光降解动力学.与相应的份菁染料相比,携带正电荷的菁染料薄膜具有相对较好的光稳定性.运用量子化学中的SCF-MO-PM3方法,全优化计算了这些染料的分子几何构型和电子结构,并解释了染料的光稳定性与其分子结构的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贡雪东	南京理工大学化学系	55	480	13.0	18.0
2	肖鹤鸣	南京理工大学化学系	145	1783	22.0	27.0
3	田禾	华东理工大学精细化工研究所	95	944	15.0	27.0
4	杨松杰	华东理工大学精细化工研究所	10	153	6.0	10.0
5	孟凡顺	华东理工大学精细化工研究所	14	110	6.0	10.0