光瞳滤波投影光刻实验研究

• 作者: 康西巧 石建平 陈旭南
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻系统 光瞳滤波 分辨力 焦深
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 22-26
• 页数: 5页
• 分类号: TN05.7
• 字数: 1947字
• 语种: 中文

摘要

介绍了一套自行研制的用于光瞳滤波实验的投影光刻实验系统,其物镜光瞳处预留出放滤波器的位置,可方便取放滤波器.在理论分析的基础上,开展了光刻对比实验研究,实验研究结果表明,光瞳滤波能大幅度提高投影光刻成像系统分辨力,并增大焦深,是一种比较有效地提高投影光刻成像质量的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈旭南	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
2	石建平	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	19	73	5.0	8.0
3	康西巧	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	6	11	2.0	3.0