畸变的掩模对光刻图形质量的影响

• 作者: 崔铮 曾阳素 杜惊雷 粟敬钦 郭永康 黄晓阳
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 激光直写 邻近效应 分辨力 抗蚀剂模型
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 20-22
• 页数: 3页
• 分类号: TN249
• 字数: 2118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2002.01.025

摘要

基于描述激光直写邻近效应的双高斯函数之差抗蚀剂模型,计算分析了邻近效应带来的掩模加工的偏差,及其对光刻图形质量的影响.模拟结果表明,当掩模的特征尺寸为1.5μm时,激光直写所加工掩模的相对面积偏差达5%,并对最终的光刻图形的质量产生严重影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭永康	四川大学物理系	87	836	16.0	21.0
2	杜惊雷	四川大学物理系	77	611	13.0	18.0
3	曾阳素	四川大学物理系	15	197	9.0	14.0
4	粟敬钦	四川大学物理系	13	153	7.0	12.0
5	黄晓阳	四川大学物理系	2	15	2.0	2.0