掠出射X射线荧光光谱仪研制

• 作者: 尼启良 巩岩 曹健林 陈波
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 掠出射X射线荧光 光谱分析 薄膜
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 现代光学仪器与精密机械
• 页码范围: 597-601
• 页数: 5页
• 分类号: O431.1
• 字数: 2931字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2002.06.013

摘要

掠出射X射线荧光分析技术是分析薄膜特性和介质表面的一种重要工具.文中简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种在实验室里由激发光源、样品承载系统、色散系统、探测系统和数据收集及处理系统构成的掠出射X射线荧光光谱仪系统,并给出了利用55Fe放射性同位素标定该光谱仪系统的试验结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈波	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	167	1116	17.0	24.0
2	巩岩	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	72	423	13.0	17.0
3	尼启良	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	35	217	8.0	13.0
4	曹健林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	37	328	10.0	17.0