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基于MOEMS技术的一种F-P光开关的设计与制作
基于MOEMS技术的一种F-P光开关的设计与制作
作者:
刘理天
吴霁虹
徐杨
董良
陈兢
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
F-P腔
光开关
MOEMS
摘要:
研制了一种用于WDM光通信系统的多层介质膜Fabry-Perot腔结构式光开关,面积为1.5mm×1.5mm.光开关采用多层复合膜消除内应力,防止产生过度变形;中心的十字复合梁有利于提高机械灵敏度,降低驱动电压.体硅腐蚀出的硅杯既减小了光开关的插损,又便于端面输入输出光纤的精确对准与固定,有效降低封装成本.制成的开关转换电压为20V,关态隔离度为87%,开态插损为0.15dB.其结构和工艺简单,易于与IC工艺相结合形成规模生产,如增加膜的层数便能制成基于F-P干涉仪结构的滤波器.
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文献信息
篇名
基于MOEMS技术的一种F-P光开关的设计与制作
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
F-P腔
光开关
MOEMS
年,卷(期)
2002,(8)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
840-845
页数
6页
分类号
TN223
字数
3395字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2002.08.011
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
董良
清华大学微电子学研究所
21
87
5.0
8.0
2
刘理天
清华大学微电子学研究所
230
1519
19.0
23.0
3
陈兢
清华大学微电子学研究所
7
54
4.0
7.0
4
吴霁虹
清华大学微电子学研究所
2
10
1.0
2.0
5
徐杨
清华大学微电子学研究所
3
20
3.0
3.0
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引文网络
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引证文献
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节点文献
F-P腔
光开关
MOEMS
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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