真空离子精饰镀膜技术研究

• 作者: 吕传花 董闯 陈宝清
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 离子掺金 高能级磁控溅射离子镀 等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 天津市电镀工程学会第九届学术年会论文选登
• 页码范围: 17-19
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153
• 字数: 1887字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2002.05.009

摘要

黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀,镀不锈钢代替电镀钯-镍合金,采用等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制TiN/Au透明陶瓷保护膜SiO2、TiO2.并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学材料工程系	198	2023	23.0	34.0
2	陈宝清	大连理工大学材料工程系	10	26	3.0	4.0
3	吕传花	大连理工大学材料工程系	3	6	2.0	2.0