常温下脉冲激光沉积氮化硼薄膜研究

• 作者: 张灿云 杨国伟 王金斌 钟向丽
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 室温 立方氮化硼 爆炸结构氮化硼
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 页码范围: 436-439
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2306字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2002.05.003

摘要

由于氮化硼特别是立方氮化硼(c-BN)的独特性质和广泛的应用前景,一直受到材料研究工作者的广泛关注.本研究利用脉冲激光在室温下沉积出立方氮化硼薄膜,傅立叶变换红外光谱和X射线衍射分析表明在所制备的氮化硼薄膜中,立方相的含量很高;同时,该研究还观察到了氮化硼的另一种高压相-爆炸结构氮化硼(Explosive-BN,E-BN).本研究同时还讨论了氮化硼薄膜生长的原理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王金斌	湘潭大学材料与光电物理学院	37	88	5.0	8.0
2	杨国伟	湘潭大学材料与光电物理学院	28	144	6.0	11.0
3	钟向丽	湘潭大学材料与光电物理学院	25	30	3.0	5.0
4	张灿云	湘潭大学材料与光电物理学院	3	12	2.0	3.0