积极开发低硅烧结技术

• 作者: 姜茂发 应自伟 廉树杰 施月循 田青 许力贤
• 来源期刊: 烧结球团
• 学科: 工学
• 关键词: 低硅烧结矿 还原性 强度 RDI PCI
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 设计与研究
• 页码范围: 8-11,23
• 页数: 5页
• 分类号: TF802.67
• 字数: 4017字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-8764.2002.06.003

摘要

阐述了开发低硅烧结技术的意义.介绍了低硅烧结矿的特点、生产状况及在高炉上的应用效果,并提出了实现低硅烧结应采取的工艺措施及今后的研究方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姜茂发	东北大学材料与冶金学院	301	2168	23.0	31.0
2	应自伟	东北大学材料与冶金学院	11	52	5.0	7.0
3	施月循	东北大学材料与冶金学院	10	68	4.0	8.0
4	许力贤	东北大学材料与冶金学院	14	76	6.0	8.0
5	廉树杰	东北大学材料与冶金学院	2	29	2.0	2.0
6	田青	东北大学材料与冶金学院	3	29	2.0	3.0