TiA1双层辉光离子渗Cr的工艺研究

• 作者: 徐重 董建新 谢锡善 贺志勇 郑传林
• 来源期刊: 宇航材料工艺
• 学科: 工学
• 关键词: TiAl金属间化合物 辉光放电 离子渗Cr 工艺参数
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 新材料新工艺
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 1174字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2330.2002.02.013

摘要

利用双层辉光离子渗金属技术(DGPSAT)对 TiAl金属间化合物进行渗Cr处理.研究了主要工艺参数对渗层表面合金含量CA和渗层厚度δ这两个目标函数的影响.结果表明,表面合金含量CA和渗层厚度δ随源极电压Vs、有效功率密度比κ的增加而增加;随阴极电压Vc的增加而减少.气压存在一个峰值,太高或太低都不利.工艺参数的最佳值:源极电压Vs为1 200 V～1 300 V,阴极电压为200 V～300 V,有效功率密度比κ为4～5,气压为25 Pa～30 Pa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董建新	北京科技大学材料学院高温合金室	265	2182	21.0	31.0
2	谢锡善	北京科技大学材料学院高温合金室	140	1956	22.0	36.0
3	徐重	太原理工大学表面工程研究所	161	2461	24.0	39.0
4	贺志勇	太原理工大学表面工程研究所	72	696	15.0	23.0
5	郑传林	北京科技大学材料学院高温合金室	3	46	3.0	3.0