MALDI-TOF MS分析研究合成高分子的综述

• 作者: 何江涛 何美玉
• 来源期刊: 质谱学报
• 学科: 化学
• 关键词: 基质辅助激光解吸电离 合成高分子 分子量分布 末端基 关键因素
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 43-55
• 页数: 13页
• 分类号: O571.423|O614.62
• 字数: 7044字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2997.2002.01.009

摘要

扼要介绍了基质辅助激光解吸电离/飞行时间质谱,在分析合成高分子中的发展历程、基本原理、主要优点及存在的困难;详细分析了基质、溶剂、盐(阳离子)和样品制样方法等关键因素对实验结果的影响及造成质量歧视的原因;阐明了这一分析技术在均聚物、混合物、共聚物等合成高分子研究中的应用及展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何美玉	北京大学化学与分子工程学院	7	112	5.0	7.0
2	何江涛	北京大学化学与分子工程学院	1	30	1.0	1.0