有序介孔SiO2在低表面活性剂下的制备及表征

• 作者: 张彩碚 王明光 王金忠 赵岩
• 来源期刊: 沈阳建筑工程学院学报(自然科学版)
• 学科: 工学
• 关键词: 有序介孔SiO2 低表面活性剂 模板剂 分子自组装
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 197-200
• 页数: 4页
• 分类号: TU127.2
• 字数: 1698字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-2021.2002.03.012

摘要

论述了碱性介质条件下,采用低表面活性剂浓度,在表面活性剂与硅源的摩尔比仅为0.06:1的条件下,利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,进而形成有序介孔SiO2材料.并对其进行HRTEM分析和小角度XRD分析,以及红外可见光谱FT-IR分析.研究表明:在低表面活性剂下,经分子自组装可形成排列有序的六方结构.水热条件下使分子的作用增强,介孔骨架中硅原子的聚集度提高.实验说明铝原子的引入取代部分硅原子导致晶格增大,并可使有序介孔结构保持完好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王金忠	沈阳建筑工程学院材料系	9	148	6.0	9.0
2	赵岩	中国科学院金属研究所	66	1012	19.0	29.0
3	张彩碚	东北大学理学院	64	672	15.0	23.0
4	王明光	东北大学理学院	11	35	3.0	5.0