新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究

• 作者: 但唐仁 卢耀华 姜德龙 孙秀平 富丽晨 李野 田景全 端木庆铎
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 变密度 卤化物 X射线光阴极 微通道板
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 513-517
• 页数: 5页
• 分类号: TN144.1
• 字数: 3615字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2002.05.020

摘要

在MCP输入端通道内壁制作了反射式X射线敏感膜层,提高了MCP对能量35～50kev X射线的探测能力.实验结果表明:变密度结构的CsI/MCP中膜层结构较密实时,其输出响应可提高5～6倍,较无膜MCP提高1～2个数量级,和CsBr、KBr相比较,以CsI的响应特性为最佳;膜层材料、结构、工艺和X射线能量等是影响探测能力的主要因素.最后指出了这种反射式CsI/MCP薄膜的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	但唐仁	长春理工大学光电子技术研究所	9	84	5.0	9.0
2	田景全	长春理工大学光电子技术研究所	24	327	8.0	17.0
3	李野	长春理工大学光电子技术研究所	68	297	9.0	13.0
4	姜德龙	长春理工大学光电子技术研究所	25	153	6.0	10.0
5	富丽晨	长春理工大学光电子技术研究所	9	96	5.0	9.0
6	孙秀平	长春理工大学光电子技术研究所	36	127	7.0	8.0
7	卢耀华	长春理工大学光电子技术研究所	2	7	2.0	2.0