纳米光刻技术的现状和未来

• 作者: 姚汉民 李展 罗先刚 陈旭南 陈献忠
• 来源期刊: 物理
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米技术 纳米光刻 纳米结构制作 应用前景
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 所属期刊栏目: 评述
• 页码范围: 691-695
• 页数: 5页
• 分类号: TN2
• 字数: 6455字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0379-4148.2002.11.001

摘要

纳米技术是21世纪信息科学的一项关键技术，纳米结构制作是纳米技术的重要组成部分.纳米光刻技术是制作纳米结构的基础，具有重要的应用前景.文章对光学光刻技术进行了概述，介绍了几种纳米光刻技术的新途径、发展现状和关键问题，最后讨论了纳米光刻技术的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈献忠	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	17	75	4.0	8.0
2	姚汉民	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	44	355	9.0	16.0
3	陈旭南	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	39	212	9.0	13.0
4	李展	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	21	187	8.0	13.0
5	罗先刚	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	52	315	9.0	15.0