影响聚合物电致发光器件旋涂膜厚因素的研究

• 作者: 刘陈 尹盛 徐重阳 王长安 钟志有
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 电致发光 聚合物电致发光器件 旋涂 正交试验 方差分析
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 201-204
• 页数: 4页
• 分类号: TN383
• 字数: 2982字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2002.03.015

摘要

采用正交试验设计,应用方差分析方法,研究了旋涂工艺中聚合物溶液的浓度、匀胶机的旋涂速度和加速度以及旋涂时间对所制备的薄膜厚度的影响.试验和分析结果表明:溶液浓度和旋涂速度对薄膜厚度具有显著性的影响,而旋涂加速度和旋涂时间对它的影响则不显著.使用旋涂工艺制备聚合物薄膜时,合理选择溶液浓度和旋涂速度,对于优化器件的性能具有非常重要的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐重阳	华中科技大学电子科学与技术系	85	592	12.0	19.0
2	王长安	华中科技大学电子科学与技术系	23	163	7.0	11.0
3	尹盛	华中科技大学电子科学与技术系	38	448	12.0	19.0
4	刘陈	华中科技大学电子科学与技术系	27	371	10.0	18.0
5	钟志有	华中科技大学电子科学与技术系	13	246	8.0	13.0