磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能

• 作者: 张慧娟 戴嘉维 李戈扬 田家万 韩增虎
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 CrNr薄膜 氮分压 力学性能
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 500-502
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 3343字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2002.05.016

摘要

采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNr薄膜,并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成,采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量.研究了氮分压对薄膜成分、相组成和力学性能的影响.结果表明,随氮分压的升高,薄膜的沉积速率明显降低;薄膜中的氮含量增加,相应地,相组成从Cr+Cr2N过渡到单相Cr2N,再逐步经Cr2N+CrN过渡到单相CrN.并在Cr:N原子比为1:2和1:1时,薄膜的硬度出现极值(HV27.1GPa和HV26.8GPa),而薄膜的弹性模量则在Cr2N时呈现350GPa的最高值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	戴嘉维	上海交通大学教育部高温材料与高温测试重点实验室	18	231	7.0	15.0
3	韩增虎	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	14	167	7.0	12.0
4	田家万	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	15	170	7.0	12.0
5	张慧娟	上海交通大学教育部高温材料与高温测试重点实验室	15	108	5.0	10.0