SmOx/Rh(100)模型表面的制备与性质

• 作者: 包信和 周维平 姜志全 庄叔贤 朱俊发 翟润生 马运生
• 来源期刊: 科学通报
• 学科: 化学
• 关键词: Rh(100)表面 SmOx膜 CO吸附 AES LEED XPS TDS
• 年，卷（期）: 2002,（6）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 415-417
• 页数: 3页
• 分类号: O64
• 字数: 2990字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0023-074X.2002.06.005

摘要

应用Auger电子能谱(AES), X射线光电子能谱(XPS)和程序升温热脱附谱(TDS)研究了SmOx / Rh(100)模型表面的制备及CO在该表面的吸附. Sm和氧的强亲合作用引起了Sm在表面的强烈偏析. 氧化表面的高温热处理, 导致SmOx在Rh(100)表面的进一步聚集. 与120 K吸附在清洁Rh(100)表面的CO的热脱附谱相比较, 吸附在SmOx / Rh(100)表面的CO的热脱附谱中在176, 331和600 K出现了新的脱附峰. 其中位于176 K的脱附峰可归属于吸附在SmOx岛上的CO的脱附, 而位于331, 600 K的脱附峰的出现与表面Sm原子的氧化程度有关, 可分别归属为吸附在富氧和贫氧SmOx岛周边界面Rh原子上的CO的脱附.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱俊发	中国科学技术大学化学物理系	17	9	2.0	2.0
2	翟润生	中国科学院大连化学物理研究所催化基础研究国家重点实验室	10	9	1.0	2.0
3	庄叔贤	中国科学技术大学化学物理系	11	28	3.0	5.0
4	马运生	中国科学技术大学化学物理系	7	17	2.0	4.0
5	姜志全	中国科学院大连化学物理研究所催化基础研究国家重点实验室	12	44	3.0	6.0
6	周维平	中国科学院大连化学物理研究所催化基础研究国家重点实验室	4	2	1.0	1.0