紫外光诱导哈茨木霉产生腐霉利抗性菌株的研究

• 作者: 丁中 刘峰 慕立义
• 来源期刊: 中国生物防治
• 学科: 农学
• 关键词: 哈茨木霉 腐霉利 抗药性
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 75-78
• 页数: 4页
• 分类号: S482.292|Q754
• 字数: 2282字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-9261.2002.02.007

摘要

通过紫外光照射结合使用含药培养基培养得到了3个哈茨木霉腐霉利抗性突变菌株.抗性菌株与亲本菌株相比较,其抗药性提高100倍以上,与异菌脲、菌核净和甲基立枯磷存在交互抗性.抗性菌株在无药培养基上连续转移培养8次,抗性程度未见下降.在适合度上,抗性菌株的菌丝生长速率有所下降,而在产孢能力、活体抑菌能力上有的抗性菌株要高于亲本菌株.3个抗性菌株均保持了对灰霉病菌的拮抗能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘峰	山东农业大学植物保护学院	186	2204	24.0	36.0
2	慕立义	山东农业大学植物保护学院	27	816	16.0	27.0
3	丁中	山东农业大学植物保护学院	3	184	3.0	3.0