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激光成像技术对抗蚀剂光敏特性的要求
激光成像技术对抗蚀剂光敏特性的要求
作者:
李力
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激光成像
抗蚀剂
光敏特性
印制电路板
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篇名
激光成像技术对抗蚀剂光敏特性的要求
来源期刊
电子电路与贴装
学科
工学
关键词
激光成像
抗蚀剂
光敏特性
印制电路板
年,卷(期)
2002,(4)
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研究方向
页码范围
4-5
页数
2页
分类号
TN410.5
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抗蚀剂
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印制电路板
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电子电路与贴装
主办单位:
中国电子学会生产技术学分会
信息产业部珠三角电子行业职业技术能鉴定培训中心
深圳市电子商会
香港盈拓科技咨询服务有限公司
出版周期:
双月刊
ISSN:
1683-8807
CN:
开本:
出版地:
深圳市富田区华发北路30号中国电子工程设
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1505
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