掺铒光纤放大器中交叉相位调制效应的研究

• 作者: 赖声礼 黄菁
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: XPM效应 EDFA 小信号增益
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 所属期刊栏目: 纤维与波导光学
• 页码范围: 347-351
• 页数: 5页
• 分类号: TN929.11
• 字数: 2428字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2002.04.014

摘要

本文建立了考虑交叉相位调制效应(XPM)的光放大模型,得到了(XPM)效应对小信号增益系数的影响,分析得到:掺铒光纤放大器(EDFA)中XPM引起的强度起伏和非线性系数、输入的泵浦功率以及放大器长度有关.仿真结果证明:EDFA中XPM效应的影响不能忽略,并且当γ≥0.01/W@m时,级联EDFA中第一个EDFA产生的XPM效应的影响也是不能忽略的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赖声礼	华南理工大学应用物理系	129	1328	18.0	29.0
2	黄菁	华南理工大学应用物理系	6	20	3.0	4.0