脉冲离子源所镀膜层厚度分布曲线的测量

• 作者: 严一心 徐均琪 李刚 杭凌侠 王季梅 蔡长龙
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲离子源 薄膜沉积 膜厚测量
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8
• 字数: 2815字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2002.02.007

摘要

为了解决大面积类金刚石薄膜的均匀性,首先要研究脉冲离子源所镀制的类金刚石薄膜的厚度分布曲线.针对这一目的,做了大量工艺实验,在不同的脉冲离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数下制备了样品,并选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了在各种工艺参数下脉冲离子源所镀膜层厚度的分布曲线.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李刚	西安工业学院光电工程与科学系	28	174	8.0	12.0
2	徐均琪	西安工业学院光电工程与科学系	87	611	13.0	20.0
3	杭凌侠	西安工业学院光电工程与科学系	93	777	15.0	22.0
4	严一心	西安工业学院光电工程与科学系	43	232	9.0	12.0