ARC工艺技术研究

• 作者: 周林 温万良
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: ARC 光刻 抗反射
• 年，卷（期）: 2002,（5）
• 所属期刊栏目: 技术论文
• 页码范围: 27-31
• 页数: 5页
• 分类号: TN405.91
• 字数: 2472字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2002.05.007

摘要

本文介绍了应用于金属互联工艺的ARC(抗反射层或防反射层)技术.通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,深刻地理解ARC技术.最后给出了可以用于0.5μm工艺生产的ARC结构及用于衡量ARC性能的参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	温万良	无锡微电子科研中心二室	1	1	1.0	1.0
2	周林	无锡微电子科研中心二室	1	1	1.0	1.0