HG-ICP-MS同时测定复杂样品中的痕量AS,Se,Hg

• 作者: 余华明 刘文齐 孙梅 张志锋 陈树榆
• 来源期刊: 测试技术学报
• 学科: 化学
• 关键词: 氢化物发生 ICP-MS 砷 硒 汞
• 年，卷（期）: 2002,（z1）
• 所属期刊栏目: 特殊环境下的测试
• 页码范围: 341-346
• 页数: 6页
• 分类号: O6
• 字数: 3552字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7449.2002.z1.071

摘要

HG-ICP-MS方法中利用HNO3作为样品溶液的酸介质,用实验室自制的二级气液分离器代替易消耗的膜分离器,在优化的实验条件下实现了As,Se,Hg的同时测定,分别获得了0.022,0.016,0.009ng/ml的检测限;并且避免了Cl对测定的质谱干扰.试验研究了样品酸度,NaBH4浓度,载气流速和引入方式等因素对测定灵敏度和稳定性的影响,以及二级气液分离器中的气液分离行为.回收率试验的结果表明,HG-ICP-MS同时测定As,Se,Hg的主要干扰来自于成氢化物元素之间,以及Fe,Cu等过渡金属离子.样品溶液中Vc-硫脲的加入可以很好地掩蔽这些离子的干扰,利用HG-ICP-MS方法测定人发,灌木叶和大米粉标样中痕量的As,Se,Hg,结果与标准参考值相符.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈树榆	中国科技大学理化科学中心	2	21	1.0	2.0
2	张志锋	中国科技大学理化科学中心	2	21	1.0	2.0
3	余华明	中国科技大学理化科学中心	2	21	1.0	2.0
4	孙梅	中国科技大学理化科学中心	1	0	0.0	0.0
5	刘文齐	中国科技大学理化科学中心	1	0	0.0	0.0