等离子化学气相沉积硅-硼-氮复合薄膜的组成和结构

• 作者: 于俊峰 于翔 王成彪
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 工学
• 关键词: Si-B-N复合薄膜 负偏压 结构 组成
• 年，卷（期）: 2002,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 83-85
• 页数: 3页
• 分类号: TB33
• 字数: 2918字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2002.02.027

摘要

利用X射线衍射(XRD)和X光电子能谱(XPS)等技术对射频-直流-等离子化学气相沉积(RF-DC-PVCD)在钢基体上Si-B-N复合薄膜的组成和结构进行分析和研究;结果表明,通过给试样基体加一适当的直流负偏压,得到含有显著六方氮化硼(h-BN)、立方氮化硼(c-BN)结晶相的Si-B-N薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王成彪	中国地质大学工程技术学院	60	471	13.0	18.0
2	于翔	中国地质大学工程技术学院	15	140	8.0	11.0
3	于俊峰	中国地质大学工程技术学院	2	9	1.0	2.0