常压辉光放电及其在薄膜表面处理中的应用

• 作者: 何磊 戴玲 李劲 林福昌
• 来源期刊: 高电压技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 常压辉光放电 等离子体 表面处理
• 年，卷（期）: 2002,（z1）
• 所属期刊栏目: 高电压新技术及应用
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: O461|O539
• 字数: 3652字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-6520.2002.z1.019

摘要

常压辉光放电(APGD)是具有较高电子能量的非平衡等离子体,比低压辉光放电更易于实现工业化应用.比较了几种获得常压辉光放电的实验方案,基于对常压辉光放电等离子体基本物化特性的深入了解,探讨了各种等离子体气氛对于绝缘介质薄膜电气及化学特性的作用(比如憎水性、表面位能等),并将之用于绝缘介质薄膜的表面处理中,对于薄膜性质的改善起到了较好的作用,对常压辉光放电等离子体的应用作了有益的尝试.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴玲	华中科技大学脉冲功率研究与发展中心	27	253	10.0	15.0
2	林福昌	华中科技大学脉冲功率研究与发展中心	87	1184	16.0	32.0
3	李劲	华中科技大学脉冲功率研究与发展中心	129	2019	23.0	37.0
4	何磊	华中科技大学脉冲功率研究与发展中心	4	25	3.0	4.0