原子光刻用亚稳态氖原子束源的研究

• 作者: 曾庆林 王育竹 蔡惟泉 鄢和明 霍芸生
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 惰性气体 亚稳态 原子束
• 年，卷（期）: 2002,（1）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: O431.2
• 字数: 1273字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2002.01.012

摘要

研制了一台用于原子光刻的亚稳态氖原子束源,其束流强度可达3.3×1014 atoms/s·Sr..研究了束流强度的变化规律,并对其机理进行了探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王育竹	中国科学院上海光学精密机械研究所量子光学开放实验室	51	222	8.0	13.0
2	霍芸生	中国科学院上海光学精密机械研究所量子光学开放实验室	5	16	3.0	4.0
3	蔡惟泉	中国科学院上海光学精密机械研究所量子光学开放实验室	7	24	3.0	4.0
4	曾庆林	中国科学院上海光学精密机械研究所量子光学开放实验室	4	12	2.0	3.0
5	鄢和明	中国科学院上海光学精密机械研究所量子光学开放实验室	3	7	2.0	2.0