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An Axisymmetric Numerical Model for Simulating Kinetically-Limited Growth of a Cylindrical Rod in 3D Laser-induced Chemical Vapor Deposition
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摘要：
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文献信息
| 篇名 | An Axisymmetric Numerical Model for Simulating Kinetically-Limited Growth of a Cylindrical Rod in 3D Laser-induced Chemical Vapor Deposition | ||
| 来源期刊 | 材料科学技术学报(英文版) | 学科 | 工学 |
| 关键词 | |||
| 年，卷（期） | 2002,（2） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 127-132 | |
| 页数 | 6页 | 分类号 | TB3 |
| 字数 | 语种 | 英文 | |
| DOI | 10.3321/j.issn:1005-0302.2002.02.009 | ||
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材料科学技术(英文版)
主办单位：
中国金属学会
中国材料研究学会
中国科学院金属研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1005-0302
CN：
21-1315/TG
开本：
大16开
出版地：
沈阳市沈河区文化路72号
邮发代号：
创刊时间：
1985
语种：
eng
出版文献量（篇）
5046
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