无显影气相光刻(DFVP)研究的进展

• 作者: 刘丹 卢建平 吴兵 李钟哲 段生权 洪啸吟 王培清 陈明
• 来源期刊: 高分子通报
• 学科: 化学
• 关键词: 光刻 光刻胶 显影 二氧化氢氟酸构
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 专论
• 页码范围: 1-4,18
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 2761字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-3726.2002.03.001

摘要

无显影气相光刻技术是我国在1980年发明的一种独特的光刻技术,具有不需要显影,分辨率高等优点.但它的机理并不清楚.本文介绍十多年来在无显影气相光刻机理研究方面的成果.实验证明,无显影气相光刻是以光致光刻胶膜内的诱蚀剂浓度差为基础的方法;而传统的光刻方法是基于光致光刻胶膜溶解度差的方法.由于两者的光刻原理不同,导致了他们间光刻效果和应用范围之区别.所得机理研究之结果可以解释无显影气相光刻中的各种独特的现象并可指导无显影气相光刻技术的发展,克服技术中存在的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘丹	清华大学化学系	73	389	10.0	18.0
2	陈明	清华大学化学系	33	500	12.0	22.0
3	洪啸吟	清华大学化学系	46	693	12.0	26.0
4	段生权	清华大学化学系	4	6	2.0	2.0
5	王培清	清华大学化学系	6	54	2.0	6.0
6	李钟哲	清华大学化学系	1	0	0.0	0.0
7	吴兵	清华大学化学系	2	0	0.0	0.0
8	卢建平	清华大学化学系	5	3	1.0	1.0