电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响

• 作者: 刘海林 汤五丰 熊锐 石兢 金明桥
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TbFeCo薄膜 AlN保护层 矫顽力 垂直磁各向异性 本征克尔角
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 209-212,220
• 页数: 5页
• 分类号: O482.55|O484.4+3
• 字数: 3139字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2002.03.012

摘要

采用射频磁控溅射法制备了非晶TbFeCo薄膜及其保护层AlN薄膜,并研究保护层对薄膜的磁和磁光特性的影响.结果表明,AlN薄膜可以增强薄膜磁光效应,同时,AlN薄膜对TbFeCo磁光薄膜的矫顽力、垂直磁各向异性以及本征克尔角都有一定的影响.其原因来自于溅射过程中N和Al原子对TbFeCo薄膜表面的轰击而导致的界面特性的改变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石兢	武汉大学物理系	24	113	6.0	10.0
2	汤五丰	武汉大学物理系	4	31	2.0	4.0
3	熊锐	武汉大学物理系	38	109	5.0	9.0
4	刘海林	武汉大学物理系	13	31	3.0	5.0
5	金明桥	武汉大学物理系	2	1	1.0	1.0