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摘要:
通过对场致发射显示器(FED)发展现状及其应用前景进行系统的比较与分析,着重讨论了场致发射体及其阵列制备工艺以及各种关键技术的优缺点.并介绍国外著名公司的研究动态,展望FED的发展趋势.
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内容分析
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文献信息
篇名 场致发射显示器的现状与发展
来源期刊 真空电子技术 学科 工学
关键词 场致发射显示器 场发射阵列 碳纳米管
年,卷(期) 2002,(5) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 15-17,26
页数 4页 分类号 TN141
字数 2317字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-8935.2002.05.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱长纯 西安交通大学电信学院 215 2372 22.0 41.0
2 史永胜 西安交通大学电信学院 14 144 5.0 12.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
场致发射显示器
场发射阵列
碳纳米管
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
双月刊
1002-8935
11-2485/TN
大16开
北京749信箱7分箱
1959
chi
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