不同裂解升温速率制备的Cf/Si3N4复合材料性能研究

• 作者: 方晖 郑文伟 陈朝辉 马青松
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 陶瓷基复合材料 裂解升温速率 聚硅氮烷 力学性能
• 年，卷（期）: 2002,（11）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 22-24,28
• 页数: 4页
• 分类号: TB323
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2002.11.006

摘要

以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以10℃/min裂解升温速率制得的陶瓷基复合材料的弯曲强度达604MPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑文伟	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室	84	1014	18.0	27.0
2	陈朝辉	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室	167	1816	23.0	32.0
3	马青松	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室	63	552	12.0	20.0
4	方晖	国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室	3	23	3.0	3.0