化学法制备光学薄膜及其应用

• 作者: 倪星元 吴广明 周斌 沈军 王珏 陈玲燕
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 化学法 薄膜 应用
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 305-308
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.005

摘要

概要综述了用化学法制备光学薄膜的浸渍镀膜法、旋转镀膜法、喷溅镀膜法、流延法、弯月面镀膜法和涂布镀膜法等方法,及其薄膜特性,诸如折射率、激光损伤阈值、机械强度等的控制技术,并展望了某些新型光学薄膜的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周斌	同济大学波耳固体物理研究所	140	1582	22.0	31.0
2	沈军	同济大学波耳固体物理研究所	199	2285	26.0	36.0
3	王珏	同济大学波耳固体物理研究所	79	1255	22.0	32.0
4	陈玲燕	同济大学波耳固体物理研究所	60	522	13.0	19.0
5	吴广明	同济大学波耳固体物理研究所	118	1607	22.0	32.0
6	倪星元	同济大学波耳固体物理研究所	48	742	16.0	25.0